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东芝称可使用表面处理技术提高LED亮度
新闻ID号:  8287 无标题图片
资讯类型:  企业动态
所属类别:  照明电源
关 键 字:  东芝/LED
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发布时间:  2006/9/25 10:22:17
更新时间:  2006/9/25 10:22:17
审核情况:  已审核开通[2006/9/25 10:22:17]
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新闻来源:  中国半导体照明网
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发 布 者:  电源在线
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  日本东芝通过在LED表面加纳米级突起物来提高其出光率。其步骤如下:

  在LED表面涂敷一层液体玻璃,加热直至玻璃硬化。再在玻璃表面上覆盖一层聚合物(聚苯乙烯与聚甲基丙烯酸甲酯加聚所得),并将其加热到200摄氏度左右,使其中的聚苯乙烯形成球体,再使用等离子刻蚀去掉聚甲基丙烯酸甲酯,这样表面上就只留下球状聚苯乙烯。将这些聚苯乙烯球遮住,再使用离子蚀刻技术去掉未经遮盖的玻璃和半导体衬底,最后形成了拥有450-500nm 高、彼此相隔150-200nm突起物的LED表面。

  东芝称,此基于分子自组织的工艺较光刻处理便宜,并已在红光LED上进行了试用。东芝相信这项技术对提高白光LED的亮度也同样有效。